[发明专利]相位差补偿光学薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 202110794231.4 | 申请日： | 2021-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN113478795B | 公开（公告）日： | 2023-05-23 |
| 发明（设计）人： | 沈勇 | 申请（专利权）人： | 沈勇 |
| 主分类号： | B29C55/14 | 分类号： | B29C55/14;B29C53/18;B29C71/00;C08J7/00;C08J7/02;B29L7/00 |
| 代理公司： | 成都玖和知识产权代理事务所(普通合伙) 51238 | 代理人： | 胡琳梅 |
| 地址： | 610000 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种相位差补偿光学薄膜的制备方法，包括以下步骤：取光学片材，依次进行预拉伸、预热、斜向拉伸和热定型处理。本方法制备的相位差薄膜，其薄膜的拉伸强度较高，光学性能优异，适合使用于液晶或者OELD面板中光学相位差的补偿，且光学补偿薄膜的光轴角度可控，可满足面板贴合Roll to Roll工艺的需要，同时本发明制备方法的生产成本较低，适合大规模产业化生产制造。 | ||
| 搜索关键词： | 相位差 补偿 光学薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
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