[发明专利]一种金属支架抛光设备及工艺在审
| 申请号： | 202110778992.0 | 申请日： | 2021-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN113481584A | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 赵杰;顾怡;吴健平;李志刚;王国辉 | 申请（专利权）人： | 上海心玮医疗科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C25F3/16 | 分类号： | C25F3/16;C25F7/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200120 上海市浦东新区中国(上海)自*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种金属支架抛光设备及工艺，其中，包括：电控系统；电解槽，其内有抛光液；抛光机构，用以夹持金属支架于所述电解槽内进行电解抛光处理，其中，所述电控系统用以控制所述抛光处理中的电解抛光参数，所述电解抛光参数包括，抛光液温度，金属支架电解抛光的电压和电流大小，以及电解抛光工作模式。其技术方案的有益效果在于，金属支架可直接进行电解抛光，不需机械抛光，省时、抛光效率高；通过电控系统与电解槽及抛光机构之间的配合，可以使抛光后支架尺寸均匀、表面光亮、可达到镜面效果；提供多种夹持工装、抛光方式，可根据不同支架结构合理选择抛光工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属支架 抛光 设备 工艺 | ||
【主权项】：
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