[发明专利]气压修正真空膜盒实现压力-位移特性设计方法有效

专利信息
申请号: 202110693536.6 申请日: 2021-06-22
公开(公告)号: CN113505473B 公开(公告)日: 2023-10-24
发明(设计)人: 穆强 申请(专利权)人: 成都凯天电子股份有限公司
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;G06F30/17;G06F30/15;G06F119/14
代理公司: 成都君合集专利代理事务所(普通合伙) 51228 代理人: 张鸣洁
地址: 610091 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 气压修正真空膜盒实现压力‑位移特性设计方法,基于轴尖焊接结构的气压修正真空膜盒的弹性敏感元件膜片,弹性敏感元件膜片为以圆弧外波加单个梯形波基础型面的膜片结构,通过膜片压力‑位移特性关系式计算出弹性敏感元件膜片的厚度h;将厚度h与膜片的工作直径D和厚度h的关系曲线图进行对比,确定厚度h是否满足刚度要求;将比值D/h和弹性敏感元件膜片的压力P与D/h的关系破坏曲线进行比对,判断膜片是否满足强度要求;根据配套系统给出的真空膜盒的径向工作空间尺寸,分配膜片梯形平中心顶高H2与支座和轴尖的高度,膜片梯形平中心顶高H2大于单个膜片的位移值W,膜片梯形平中心顶高H2小于膜片平中心最小直径对应的高度值。
搜索关键词: 气压 修正 真空 实现 压力 位移 特性 设计 方法
【主权项】:
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