[发明专利]一种CVD设备背板精密研磨液、制备工艺及加工方法在审
| 申请号： | 202110470629.2 | 申请日： | 2021-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN113201285A | 公开（公告）日： | 2021-08-03 |
| 发明（设计）人： | 范洪发;何桥;谢磊 | 申请（专利权）人： | 安徽应友光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;B24B1/00;B24B57/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 239500 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种CVD设备背板精密研磨液、制备工艺及加工方法，包括0.1‑3%的有机酸、0.1‑10%金属氧化物、0.1‑5%的PH缓冲剂、0.1‑1%的缓蚀剂、1‑10%的胶体二氧化硅、去离子水，研磨液PH值为4‑4.5。具体步骤是：将20份的电子级胶体二氧化硅加入到去离子水中，其中电子级胶体二氧化硅平均粒径为120um，缓慢加入胶体二氧化硅磨料，充分搅拌30min，再加入1份酒石酸，3份过氧化氢，0.1份改性咪唑啉衍生物，分散其中后，加入PH缓冲剂三乙醇胺进行酸碱平衡，调节PH至4.2，制作成精密研磨液。通过精细研磨的方法，去除附着在背板表面的污染物，同时将部件的损耗降低到最小水平，保证背板表面再生后粗糙度与光亮度，降低设备复机颗粒污染风险。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 cvd 设备 背板 精密 研磨 制备 工艺 加工 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安徽应友光电科技有限公司，未经安徽应友光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110470629.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
