[发明专利]光学基板曝光区域的确定方法、布局方法及确定系统有效
| 申请号： | 202110451624.5 | 申请日： | 2021-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN113066098B | 公开（公告）日： | 2023-10-27 |
| 发明（设计）人： | 孙良峰;崔鑫;任星晓 | 申请（专利权）人： | 上海御微半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G06T7/187 | 分类号： | G06T7/187;G06T7/62;G06T7/70 |
| 代理公司： | 苏州友佳知识产权代理事务所(普通合伙) 32351 | 代理人： | 陈德霞 |
| 地址： | 200120 上海市浦东新区中国（上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光学基板曝光区域的确定方法、布局方法及确定系统，该确定方法包括：采集光学基板的图像数据，以基于光学基板的图像数据识别光学基板的凹凸区域和光学基板的外轮廓曲线；改变光学基板的位置状态，以根据光学基板的凹凸区域和外轮廓曲线确定不同位置状态的光学基板中有效曝光场的数量和/或有效曝光场的面积之和；将目标位置状态对应的光学基板中有效曝光场的数量最多和/或有效曝光场的面积之和最大时对应的所有有效曝光场确定为光学基板的曝光区域。本发明解决了现有技术中由于非标基底面型不平坦、局部区域呈现凹凸不平现象导致非标基底的曝光区域布局的准确度大幅度降低的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 曝光 区域 确定 方法 布局 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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