[发明专利]匀光装置及方法、光源装置和投影系统有效
申请号: | 202110378344.6 | 申请日: | 2021-04-08 |
公开(公告)号: | CN113189832B | 公开(公告)日: | 2022-06-17 |
发明(设计)人: | 葛明星;陈龙 | 申请(专利权)人: | 无锡视美乐激光显示科技有限公司 |
主分类号: | G03B21/20 | 分类号: | G03B21/20;G02B27/14;G02B27/28 |
代理公司: | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人: | 赵楠 |
地址: | 214200 江苏省无锡市宜兴经济*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种匀光装置及方法、光源装置和投影系统。该匀光装置包括:在光路上依次设置的分光装置和透镜阵列,所述分光装置用于对第一光束进行分光以获得多个第二光束;以及所述透镜阵列,用于将入射的所述多个第二光束分成更多束分别进行整形,以转变成第三光束。本发明中的匀光装置及方法、光源装置和投影系统可以提升激发光斑的均匀性,提升激发效率并且降低了透镜阵列上的功率密度。 | ||
搜索关键词: | 装置 方法 光源 投影 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡视美乐激光显示科技有限公司,未经无锡视美乐激光显示科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110378344.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。