[发明专利]一种利用光掩模制备的聚合物分散液晶薄膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202110291431.8 | 申请日： | 2021-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN113022062A | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | 王冬;陈先亮;赵玉真;苗宗成;贺泽民;张慧敏;赵阳 | 申请（专利权）人： | 西京学院 |
| 主分类号： | B32B27/06 | 分类号： | B32B27/06;B32B27/36;B32B33/00;G02F1/1334;C08J7/044;C08J7/04;C08J7/06;C08L67/02;C08F222/14;C08F220/32;C08F226/06 |
| 代理公司： | 西安众和至成知识产权代理事务所(普通合伙) 61249 | 代理人： | 强宏超 |
| 地址： | 710123 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种利用光掩模制备的聚合物分散液晶薄膜，从上至下第一层为下侧镀有导电层的双向拉伸聚酯透明导电薄层，第二层为高分子液晶复合体系薄层，第三层为上侧镀有导电层的双向拉伸聚酯透明导电薄层；该液晶薄膜在制作时将光掩膜放置于薄膜上，用紫外灯进行照射，再撤去掩膜用紫外灯照射，制得聚合物分散液晶薄膜；本发明中间层为添加有紫外线吸收剂和两种特征吸收波长光引发剂的液晶复合体系薄层，再通过光掩模实现分波长分步骤的紫外聚合，制备出了原料成本用量更低、光电性能更优异、综合性能更好的聚合物分散液晶薄膜，为聚合物分散液晶薄膜的生产和发展提供了新的思路和宝贵经验。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 光掩模 制备 聚合物 分散 液晶 薄膜 及其 方法 | ||
【主权项】：
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