[发明专利]三维微纳弯折结构及利用电子束制备其的方法在审
| 申请号： | 202110238211.9 | 申请日： | 2021-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN113023667A | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | 顾长志;郑睿瑄;潘如豪;杨海方;金爱子;李俊杰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院物理研究所 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京市正见永申律师事务所 11497 | 代理人： | 黄小临;冯玉清 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及三维微纳弯折结构及利用电子束制备其的方法。根据一示例性实施例，一种制备三维弯折结构的方法可包括：制备叠层结构，所述叠层结构至少包括第一层和在所述第一层上的第二层，所述叠层结构具有支承在衬底上的主体部分和从所述主体部分延伸的至少一个悬伸图案部分；用电子束照射所述悬伸图案部分，以使得所述悬伸图案部分发生弯折，从而获得三维弯折结构。 | ||
| 搜索关键词： | 三维 微纳弯折 结构 利用 电子束 制备 方法 | ||
【主权项】：
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