[发明专利]纳米材料修饰透光薄膜的光电探测器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110190212.0 申请日: 2021-02-18
公开(公告)号: CN112928174B 公开(公告)日: 2023-09-19
发明(设计)人: 曹阳;王晨凤;陈浩 申请(专利权)人: 北京信息科技大学
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/032;H01L31/09;H01L31/18;B82Y30/00
代理公司: 北京市中闻律师事务所 11388 代理人: 冯梦洪
地址: 100192 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种纳米材料修饰透光薄膜的光电探测器,能够显著提高光电探测器的性能,制备简单、成本低廉,在实际应用中具有广阔前景。包括:中空凹槽结构、透光薄膜、第一纳米材料层、第二纳米材料层、沉积电极;透光薄膜的上、下表面分别设置第一纳米材料层、第二纳米材料层,沉积电极在第二纳米材料层的下表面,然后将透光薄膜固定于中空凹槽结构上,从而使透光薄膜处于悬浮状态;入射光线依次经过第一纳米材料层、透光薄膜、第二纳米材料层、沉积电极。还提供了制备方法。
搜索关键词: 纳米 材料 修饰 透光 薄膜 光电 探测器 及其 制备 方法
【主权项】:
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