[发明专利]一种大容量真空灭弧室触头片及采用该触头片的触头在审
| 申请号： | 202110096396.4 | 申请日： | 2021-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN112786348A | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 耿英三;冯卫刚;马慧;刘志远;王建华 | 申请（专利权）人： | 西安交通大学 |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 西安智大知识产权代理事务所 61215 | 代理人： | 何会侠 |
| 地址： | 710049 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种大容量真空灭弧室触头片及采用该触头片的触头，属于中高压真空开关领域，通过调整触头片表面凸起的位置以及引流槽的数量、位置和形状，实现控制起弧点位置、增强纵向磁场和限制涡流的目标。本发明的可以显著增强真空灭弧室的大电流开断能力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 容量 真空 灭弧室触头片 采用 触头片 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安交通大学，未经西安交通大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110096396.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
