[发明专利]光记录介质在审
申请号: | 202080038506.5 | 申请日: | 2020-04-09 |
公开(公告)号: | CN113874939A | 公开(公告)日: | 2021-12-31 |
发明(设计)人: | 太田阳;西纪彰;清水崇志 | 申请(专利权)人: | 索尼集团公司 |
主分类号: | G11B7/24018 | 分类号: | G11B7/24018;G11B7/2403;G11B7/24038;G11B7/2542;G11B7/26 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 王玉双 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 光记录介质具备具有第1表面及第2表面的光记录介质主体、及在第1表面设置的第1凹凸结构层。第1凹凸结构层包含以用于信息信号记录或再生的光的波长以下的间距设置的多个第1结构体。第1凹凸结构层的凸部的面积比在80%以下,光从第1表面侧照射。 | ||
搜索关键词: | 记录 介质 | ||
【主权项】:
暂无信息
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- 光记录介质-202080038506.5
- 太田阳;西纪彰;清水崇志 - 索尼集团公司
- 2020-04-09 - 2021-12-31 - G11B7/24018
- 光记录介质具备具有第1表面及第2表面的光记录介质主体、及在第1表面设置的第1凹凸结构层。第1凹凸结构层包含以用于信息信号记录或再生的光的波长以下的间距设置的多个第1结构体。第1凹凸结构层的凸部的面积比在80%以下,光从第1表面侧照射。
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