[发明专利]包含嵌段共聚物的组合物和使用该组合物生产硅质膜的方法在审
| 申请号： | 202080026363.6 | 申请日： | 2020-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN113677744A | 公开（公告）日： | 2021-11-19 |
| 发明（设计）人： | 藤原嵩士;佐藤敦彦 | 申请（专利权）人： | 默克专利有限公司 |
| 主分类号： | C08J3/28 | 分类号： | C08J3/28;C08G77/60;C09D183/16;H01L21/02;C08G77/32;C08G77/38 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人： | 刘卓然 |
| 地址： | 德国达*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种能够填充窄且高纵横比的沟槽并且能够制造厚的硅质膜的硅质膜制造用组合物。[解决手段]本发明提供一种硅质膜制造用组合物，其包含(a)嵌段共聚物，其具有：具有5个或更多个硅原子的线性和/或环状聚硅烷主链嵌段和具有15个或更多个硅原子的聚碳硅烷主链嵌段，和(b)溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 共聚物 组合 使用 生产 质膜 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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