[实用新型]一种晶片电阻滚镀线有效
申请号: | 202022969808.4 | 申请日: | 2020-12-10 |
公开(公告)号: | CN213844911U | 公开(公告)日: | 2021-07-30 |
发明(设计)人: | 林丽霞 | 申请(专利权)人: | 昆山力泰翔机械设备有限公司 |
主分类号: | H01C17/14 | 分类号: | H01C17/14;H01C7/00;B01D46/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215300 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型属于晶片滚镀领域,尤其是一种晶片电阻滚镀线,针对现有的晶片电阻滚镀线在对晶片电阻进行滚镀时,操作复杂,且滚镀不均匀,同时滚镀时会产生大量的有害气体,对环境造成污染的问题,现提出如下方案,其包括底座,所述底座的顶部固定连接有固定架,所述底座的顶部固定连接有滚镀池,所述滚镀池位于固定架内,所述固定架的顶部固定连接有动力箱,所述动力箱上设有升降组件,本实用新型结构合理,操作便利,通过使滚镀箱置于滚镀池内,通过驱动电机和连接轴,可以使滚镀箱进行转动,且滚镀箱的外边面均匀开设有多个渗透孔,使得晶片电阻滚镀更加均匀,同时可以对滚镀产生的有害气体进行净化,提高了环保性。 | ||
搜索关键词: | 一种 晶片 电阻 滚镀线 | ||
【主权项】:
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