[实用新型]一种退火炉有效
申请号: | 202022883164.7 | 申请日: | 2020-12-04 |
公开(公告)号: | CN213905303U | 公开(公告)日: | 2021-08-06 |
发明(设计)人: | 何蓉 | 申请(专利权)人: | 襄阳福迪柯光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 武汉经世知识产权代理事务所(普通合伙) 42254 | 代理人: | 马君胜 |
地址: | 441000*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本实用新型涉及退火炉领域,公开了一种退火炉,包括主体和顶盖,主体的外侧设置有固定轴,且固定轴的外侧设置有控制杆,所述控制杆的边侧连接有连接件,且连接件的端部连接有卡扣,所述顶盖安装于主体的顶部,且顶盖的边侧安装有连接扣,所述连接扣的内部设置有弹簧,且弹簧的内部设置有升降扣,所述主体的边侧设置有滑轨,且滑轨的外侧连接有活动架,并且活动架的底部设置有螺杆,所述活动架的边侧贯穿有定位栓,且定位栓的外侧设置有安装架,所述安装架的内部安装有循环风机。本实用新型具有以下优点和效果:双重密封设置,便于设备进行开合,保证设备使用时不会出现泄漏的情况,保证设备使用的稳定性与安全性,且有利于设备进行循环风扇的拆装。 | ||
搜索关键词: | 一种 退火炉 | ||
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造