[发明专利]一种自适应光谱合成系统有效
| 申请号： | 202011503049.0 | 申请日： | 2020-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN112636141B | 公开（公告）日： | 2022-05-31 |
| 发明（设计）人： | 饶大幸;崔勇;史建;华怡林;李福建;刘佳妮;高妍琦;季来林;刘佳;谢庆南;贺瑞敬;赵晓晖;单翀;郑权;刘栋;隋展 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所 |
| 主分类号： | H01S3/067 | 分类号： | H01S3/067;G02B6/32;G02B6/34;G02B27/10 |
| 代理公司： | 上海智力专利商标事务所(普通合伙) 31105 | 代理人： | 周涛 |
| 地址： | 201899 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及到一种自适应光谱合成系统，该系统包括端镜、光纤放大器、光纤阵列、光纤布拉格光栅、传输透镜、衍射光栅、准直透镜和结构件，所述的光纤阵列、传输透镜、衍射光栅和准直透镜分别固定所述的结构件上形成一个整体。本发明的自适应光谱合成系统可以实现子束的光谱自适应锁定，降低系统对光谱稳定性和线宽的要求，有效提升合成光束质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 自适应 光谱 合成 系统 | ||
【主权项】：
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