[发明专利]一种高透明超双疏表面的制备方法在审
| 申请号： | 202011461552.4 | 申请日： | 2020-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN112624033A | 公开（公告）日： | 2021-04-09 |
| 发明（设计）人： | 李旸;陆春华;寇佳慧 | 申请（专利权）人： | 南京工业大学 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人： | 徐冬涛 |
| 地址： | 210009 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于微纳米加工与应用领域，涉及一种高透明超双疏表面的方制备法。具体步骤如下：在基底上涂覆高分子层，而后涂覆相分离共混薄膜，再以反应离子刻蚀技术进行选择性刻蚀形成T型纳米柱凹角结构，该纳米柱短程无序长程有序的分布，可有效消除周期性微纳结构因光学衍射产生的宏观彩虹效应，结合光捕获作用实现高透明性，在表面修饰1H,1H,2H,2H‑全氟癸基三氯硅烷单分子层后，即可实现超疏水超疏油性能。该制备方法具备过程快速简单、低成本、低毒性等优点，可应用于触摸屏显示领域和可穿戴设备等自清洁表面、流体减阻等方面，应用前景广阔。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 透明 超双疏 表面 制备 方法 | ||
【主权项】：
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