[发明专利]静电吸盘和基板固定装置在审
| 申请号： | 202011456661.7 | 申请日： | 2020-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN112951754A | 公开（公告）日： | 2021-06-11 |
| 发明（设计）人： | 草间泰彦 | 申请（专利权）人： | 新光电气工业株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 顾红霞;龙涛峰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开提供一种静电吸盘和基板固定装置，其中，正电极和负电极在气孔附近隔着第一间隙彼此面对，正电极和负电极隔着第一路径和第二路径彼此面对，气孔介于第一路径和第二路径之间，并且正电极和负电极在气孔附近隔着第二间隙彼此面对。第一路径和第二路径在第一端处会聚成第一间隙，并且在第二端处会聚成第二间隙。在第一端和第二端处，由正电极和负电极形成的角部被倒圆。在除了角部之外的第一路径中，气孔与正电极之间的第一距离是恒定的。在除了角部之外的第二路径中，气孔与负电极之间的第二距离是恒定的。第一距离和第二距离相同。 | ||
| 搜索关键词： | 静电 吸盘 固定 装置 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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