[发明专利]脱模膜在审
| 申请号： | 202011432113.0 | 申请日： | 2017-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN112519373A | 公开（公告）日： | 2021-03-19 |
| 发明（设计）人： | 辻内直树;中垣贵充;杉山龙一 | 申请（专利权）人： | 东丽薄膜先端加工股份有限公司 |
| 主分类号： | B32B27/42 | 分类号： | B32B27/42;B32B7/06;B32B27/00;B32B27/40;B32B27/18;B32B27/36 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 李国卿 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的为提供非有机硅系脱模膜，其能够确保层叠于脱模膜的脱模层上的被转印膜的良好的涂布性、表面平滑性，并且雾度值较低。为了实现上述目的，本发明具有以下的构成。即，脱模膜，其为在基材膜的一个面具有脱模层的脱模膜，脱模层含有非有机硅系化合物作为主成分，并且脱模层的表面粗糙度SRa(A)小于10nm，脱模膜的与具有脱模层的面相反的面的表面粗糙度SRa(B)小于10nm。 | ||
| 搜索关键词： | 脱模 | ||
【主权项】：
暂无信息
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