[发明专利]基于光场迭代的精确高反光去除方法有效
| 申请号： | 202011308683.9 | 申请日： | 2020-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN112419185B | 公开（公告）日： | 2021-07-06 |
| 发明（设计）人： | 冯维;李秀花;高俊辉;徐仕楠;曲通;孙星宇;周世奇;王恒辉;程雄昊;赵大兴 | 申请（专利权）人： | 湖北工业大学 |
| 主分类号： | G06T5/00 | 分类号： | G06T5/00;G06T7/13 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 王琪 |
| 地址： | 430068 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于光场迭代的精确的高反光去除方法：(1)结合光场数据提取中心视角图像，运用自适应阈值和光场迭代算法，充分检测到每一个镜面像素点；重聚焦到镜面候选的每个角度，计算角度像素方差，并设定阈值得到饱和像素点和非饱和像素点；对非饱和像素点转换到HSI空间中进行聚类，运用双色反射模型结合本征图像处理非饱和像素点。(2)提出自适应方向的饱和像素点处理方法，利用边缘检测算子去除对重建饱和像素点有干扰的边缘方向；然后，基于光场的多个角度特征，提出高斯概率分布模型运用到光场图像角度域中进行加权求和以替代饱和高光像素点。(3)提出镜面残余占比和图像信息熵结合的方法定量评估高光去除效果。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 光场迭代 精确 反光 去除 方法 | ||
【主权项】：
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