[发明专利]一种非均匀抛物线阵列天线设计方法在审
| 申请号： | 202011246386.6 | 申请日： | 2020-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN112307588A | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 郭华 | 申请（专利权）人： | 西安工程大学 |
| 主分类号： | G06F30/18 | 分类号： | G06F30/18;G06F30/27;G06N3/00;G06F111/04 |
| 代理公司： | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人： | 罗笛 |
| 地址： | 710048 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开的一种非均匀抛物线阵列天线设计方法，包括以下步骤：步骤1、构建抛物线阵列天线的数学表达式，设定阵列天线的孔径尺寸、阵列单元数目和抛物线相关参数；步骤2、计算具有最小阵元间距约束要求阵列单元位置；步骤3、计算抛物线阵列天线的辐射方向图，计算辐射方向图的最高旁瓣电平，得到适应度函数值；步骤4、利用入侵杂草算法优化阵列单元的位置，得到非均匀抛物线阵列天线设计优化结果。本发明一种非均匀抛物线阵列天线设计方法，能够降低方向图最高旁瓣电平，大大降低馈电网络的设计难度，避免相邻阵列单元的重叠和降低阵列天线的互耦效应，对相邻阵列单元的最小间距进行约束，有效限制阵列天线的尺寸和阵列单元的数目。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 均匀 抛物线 阵列 天线 设计 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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