[发明专利]用于生长大尺寸外延片的石墨盘及其使用方法有效
申请号: | 202011189588.1 | 申请日: | 2020-10-30 |
公开(公告)号: | CN112501688B | 公开(公告)日: | 2022-03-15 |
发明(设计)人: | 杨军伟;宋华平;陈蛟;黄敏;王文军;简基康;陈小龙 | 申请(专利权)人: | 松山湖材料实验室;中国科学院物理研究所 |
主分类号: | C30B25/12 | 分类号: | C30B25/12;C30B28/14;C30B29/36;C30B28/12;C30B23/02;H01L21/687 |
代理公司: | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人: | 陈培琼 |
地址: | 523000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于生长大尺寸外延片的石墨盘及其使用方法,石墨盘包括石墨盘基座,石墨盘基座的中心区域设有放置区,该放置区的边缘位置设有若干周期性斜面凹槽和若干周期性凸起,该周期性凸起和周期性斜面凹槽沿所述放置区的外形轮廓线排列。本发明通过在放置区的边缘位置设有周期性斜面凹槽和周期性凸起,可显著减少晶圆边缘与石墨盘的粘接,大大提高尤其是厚膜外延片生长完后取片的便捷性,降低晶圆边缘的损伤;同时周期性斜面凹槽结构不仅可以增加边缘气流的流动性,减少甚至消除气体湍流,让晶圆的径向温场更均匀,提高了外延片径向均匀性,提升产品质量,另外整体结构简单,成本低,操作使用简易,易于实现,利于广泛推广应用。 | ||
搜索关键词: | 用于 生长 尺寸 外延 石墨 及其 使用方法 | ||
【主权项】:
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