[发明专利]用于生长大尺寸外延片的石墨盘及其使用方法有效

专利信息
申请号: 202011189588.1 申请日: 2020-10-30
公开(公告)号: CN112501688B 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 杨军伟;宋华平;陈蛟;黄敏;王文军;简基康;陈小龙 申请(专利权)人: 松山湖材料实验室;中国科学院物理研究所
主分类号: C30B25/12 分类号: C30B25/12;C30B28/14;C30B29/36;C30B28/12;C30B23/02;H01L21/687
代理公司: 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 代理人: 陈培琼
地址: 523000 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种用于生长大尺寸外延片的石墨盘及其使用方法,石墨盘包括石墨盘基座,石墨盘基座的中心区域设有放置区,该放置区的边缘位置设有若干周期性斜面凹槽和若干周期性凸起,该周期性凸起和周期性斜面凹槽沿所述放置区的外形轮廓线排列。本发明通过在放置区的边缘位置设有周期性斜面凹槽和周期性凸起,可显著减少晶圆边缘与石墨盘的粘接,大大提高尤其是厚膜外延片生长完后取片的便捷性,降低晶圆边缘的损伤;同时周期性斜面凹槽结构不仅可以增加边缘气流的流动性,减少甚至消除气体湍流,让晶圆的径向温场更均匀,提高了外延片径向均匀性,提升产品质量,另外整体结构简单,成本低,操作使用简易,易于实现,利于广泛推广应用。
搜索关键词: 用于 生长 尺寸 外延 石墨 及其 使用方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松山湖材料实验室;中国科学院物理研究所,未经松山湖材料实验室;中国科学院物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011189588.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top