[发明专利]X射线设备校正方法、成像方法和成像系统在审
| 申请号： | 202011185982.8 | 申请日： | 2020-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN112294349A | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 闫晶;陆学飞;冷官冀;崔凯 | 申请（专利权）人： | 上海联影医疗科技股份有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 杭州华进联浙知识产权代理有限公司 33250 | 代理人： | 何晓春 |
| 地址： | 201807 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种基X射线设备校正方法、成像方法和成像系统，X射线设备的点阵光源与探测器之间设置有模体；点阵光源包括多个点光源；模体包括相互间隔设置的多个几何体；每个点光源的射线投影区域至少对应六个几何体；方法包括：控制点阵光源中多个点光源扫描模体，得到各个点光源对模体的投影图像；根据各投影图像，确定各投影图像中至少六个几何体在图像坐标系下的第一坐标；获取各几何体在X射线设备坐标系下的第二坐标；根据第一坐标以及第二坐标，计算点阵光源中各点光源的校正矩阵。通过获取点阵光源中各点光源的校正矩阵，再通过个点光源的校正矩阵能够校正X射线设备的成像质量，从而保证图像伪影校正的准确性，提升重建图像的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 设备 校正 方法 成像 系统 | ||
【主权项】：
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