[发明专利]一种偏光片用PVA膜的染色工艺及偏光片有效

专利信息
申请号: 202011105963.X 申请日: 2020-10-15
公开(公告)号: CN113204067B 公开(公告)日: 2023-05-23
发明(设计)人: 庄飞;魏磊 申请(专利权)人: 合肥三利谱光电科技有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B1/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 230012 安徽省合肥*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 一种偏光片用PVA膜的染色工艺及偏光片,染色工艺,包括水洗、膨润、染色、拉伸、补色、干燥的步骤,所述补色步骤具体包括:将拉伸后的PVA膜浸渍于补色槽中进行补色,补色槽液包括0.1‑0.5wt%的硼酸、4.0‑5.0wt%的碘化钾和1.5‑2.0wt%的碘,本发明克服了现有技术的不足,使拉伸后的PVA膜的染色不均的问题得到了消除,使染色条纹消失,同时偏光片的透过率也得到了提高。
搜索关键词: 一种 偏光 pva 染色 工艺
【主权项】:
暂无信息
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