[发明专利]一种偏光片用PVA膜的染色工艺及偏光片有效
申请号: | 202011105963.X | 申请日: | 2020-10-15 |
公开(公告)号: | CN113204067B | 公开(公告)日: | 2023-05-23 |
发明(设计)人: | 庄飞;魏磊 | 申请(专利权)人: | 合肥三利谱光电科技有限公司 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02B1/14 |
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地址: | 230012 安徽省合肥*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 一种偏光片用PVA膜的染色工艺及偏光片,染色工艺,包括水洗、膨润、染色、拉伸、补色、干燥的步骤,所述补色步骤具体包括:将拉伸后的PVA膜浸渍于补色槽中进行补色,补色槽液包括0.1‑0.5wt%的硼酸、4.0‑5.0wt%的碘化钾和1.5‑2.0wt%的碘,本发明克服了现有技术的不足,使拉伸后的PVA膜的染色不均的问题得到了消除,使染色条纹消失,同时偏光片的透过率也得到了提高。 | ||
搜索关键词: | 一种 偏光 pva 染色 工艺 | ||
【主权项】:
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