[发明专利]光波导制备方法及光波导在审
申请号: | 202011094131.2 | 申请日: | 2020-10-14 |
公开(公告)号: | CN111983752A | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | 杜凯凯;赵东峰;李琨;臧法珩;赵恩;程鑫;杨镇源 | 申请(专利权)人: | 歌尔股份有限公司 |
主分类号: | G02B6/124 | 分类号: | G02B6/124;G02B6/136 |
代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 关向兰 |
地址: | 261031 山东省潍*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开一种光波导制备方法及光波导,其中,所述光波导制备方法,包括以下步骤:提供一衬底,所述衬底上形成有待刻蚀基体,所述待刻蚀基体为无机材料;于所述待刻蚀基体一侧涂覆光刻胶;对所述光刻胶进行纳米压印,以形成纳米压印掩膜;以及采用干法刻蚀对所述纳米压印掩膜和所述待刻蚀基体进行刻蚀,以除去纳米压印掩膜,并在所述待刻蚀基体上形成目标光栅。本发明通过采用无机材料作为待刻蚀基体,在采用干法刻蚀在待刻蚀基体上形成目标光栅,所形成的目标光栅为无机材料,使目标光栅能够具有较高的可靠性,不容易出现变黄的问题,有助于提升光波导的美观性和使用效果。 | ||
搜索关键词: | 波导 制备 方法 | ||
【主权项】:
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