[发明专利]一种用于CVD涂层设备的废气中和系统在审
申请号: | 202011077902.7 | 申请日: | 2020-10-10 |
公开(公告)号: | CN112011785A | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 王彤 | 申请(专利权)人: | 常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;B01D53/78 |
代理公司: | 上海思牛达专利代理事务所(特殊普通合伙) 31355 | 代理人: | 丁剑 |
地址: | 213100 江苏省常州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及金属切削刀具和工模具涂层技术领域,且公开了一种用于CVD涂层设备的废气中和系统,包括带磁感开关冷却水浮子流量计、PH计与溢流集水槽框架,该用于CVD涂层设备的废气中和系统,通过废气进入口安装有N2保护系统,能够抵消一部分气蚀作用。延长了液环真空泵的使用寿命,降低了设备的成本,冷却水浮子流量计带有磁感开关,可以实时感知冷却水的流量是否达到了设定值,当冷却水流量计小于设定值,磁感开关不被触发,在延时若干秒后,系统发出流量不足的报警提醒,当冷却水流量达到或超过设定值时,磁感开关被触发,系统不会发出报警提醒,因而方便操作人员实时准确的了解冷却水的实际流量,在流量计不足时及时通过报警告知操作人员。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 cvd 涂层 设备 废气 中和 系统 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的