[发明专利]一种用于CVD涂层设备的废气中和系统在审

专利信息
申请号: 202011077902.7 申请日: 2020-10-10
公开(公告)号: CN112011785A 公开(公告)日: 2020-12-01
发明(设计)人: 王彤 申请(专利权)人: 常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;B01D53/78
代理公司: 上海思牛达专利代理事务所(特殊普通合伙) 31355 代理人: 丁剑
地址: 213100 江苏省常州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及金属切削刀具和工模具涂层技术领域,且公开了一种用于CVD涂层设备的废气中和系统,包括带磁感开关冷却水浮子流量计、PH计与溢流集水槽框架,该用于CVD涂层设备的废气中和系统,通过废气进入口安装有N2保护系统,能够抵消一部分气蚀作用。延长了液环真空泵的使用寿命,降低了设备的成本,冷却水浮子流量计带有磁感开关,可以实时感知冷却水的流量是否达到了设定值,当冷却水流量计小于设定值,磁感开关不被触发,在延时若干秒后,系统发出流量不足的报警提醒,当冷却水流量达到或超过设定值时,磁感开关被触发,系统不会发出报警提醒,因而方便操作人员实时准确的了解冷却水的实际流量,在流量计不足时及时通过报警告知操作人员。
搜索关键词: 一种 用于 cvd 涂层 设备 废气 中和 系统
【主权项】:
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