[发明专利]周期性光栅结构的光学特性建模方法、装置和存储介质在审
| 申请号： | 202011062137.1 | 申请日： | 2020-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN112163341A | 公开（公告）日： | 2021-01-01 |
| 发明（设计）人： | 陈修国;杨天娟;刘世元;龚朋;施耀明 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学;上海精测半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20;G06F17/14;G06F111/10 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种周期性光栅结构的光学特性建模方法、装置和存储介质，属于光学关键尺寸测量技术领域，所述方法包括：获取周期性光栅结构内材料的介电常数；将周期性光栅结构拆分为若干包含一种材料的区域；基于格林公式将各个区域的面积分转化为各个区域边界的线积分；利用线积分表示各个区域对应的多边形顶点的显式解析表达式；从各个显式解析表达式中获取各个区域对应的介电常数傅里叶系数，基于各个区域对应的介电常数傅里叶系数确定周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数；利用周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数实现周期性光栅结构的光学特性建模。本发明简化获取周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数的过程，提高光学特性建模的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 周期性 光栅 结构 光学 特性 建模 方法 装置 存储 介质 | ||
【主权项】：
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