[发明专利]一种红外探测器材料的势垒层及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011060701.6 申请日: 2020-09-30
公开(公告)号: CN112382690A 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: 陈冬琼;邓功荣;杨文运;朱琴;信思树;戴欣冉;赵宇鹏;余瑞云;尚发兰;太云见;赵鹏;黄晖 申请(专利权)人: 昆明物理研究所
主分类号: H01L31/109 分类号: H01L31/109;H01L31/0304;H01L31/18
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 周蜜
地址: 650223 *** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明涉及一种红外探测器材料的势垒层及其制备方法,属于光电子材料与器件技术领域。所述红外探测器材料结构从上向下依次为顶电极接触层、势垒层、吸收层、底电极接触层、缓冲层以及衬底;势垒层材料为掺杂5×1015~1×1016cm‑3Be的p型复合层,在吸收层上先生长AlAs0.08Sb0.92层,后生长AlSb层,之后两层交替生长形成的复合层,AlAs0.08Sb0.92层和AlSb层的厚度分别独立为1~10nm,AlAs0.08Sb0.92层与吸收层接触;势垒层厚度为100~200nm。势垒层能消除InAsSb与势垒能带结构中的价带偏移和晶格失配,改善红外探测器光生载流子的传输特性及电学性能。
搜索关键词: 一种 红外探测器 材料 势垒层 及其 制备 方法
【主权项】:
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