[发明专利]一种光学晶体吸收损耗的测量方法及装置有效
| 申请号： | 202011034655.2 | 申请日： | 2020-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN112179626B | 公开（公告）日： | 2022-06-24 |
| 发明（设计）人： | 尹志军;崔国新;倪荣萍;许志城 | 申请（专利权）人： | 南京南智先进光电集成技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 | 代理人： | 逯长明;许伟群 |
| 地址： | 210000 江苏省南京市江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请提供一种光学晶体吸收损耗的测量方法及装置。所述方法包括：根据待测晶体和吸收损耗已知的标准晶体构建测量系统，其中，待测晶体与标准晶体关于预设基准线轴对称，拾音器位于基准线的预设位置上，两束初始参数相同的脉冲激光分别照射在待测晶体的目标测点以及标准晶体的对称测点上；利用构建好的测量系统进行测量时，在预设范围内调节两束脉冲激光的相位差，利用拾音器获取不同相位差下的声波干涉强度，再结合标准晶体的吸收损耗、脉冲激光的光强和标准晶体的尺寸，确定待测晶体的吸收损耗。整个过程中，拾音器无需设置在待测晶体表面，位置较为灵活，使得最终的测量结果不受待测晶体的形状和拾音器摆放位置的影响，准确度较高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 晶体 吸收 损耗 测量方法 装置 | ||
【主权项】：
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