[发明专利]集成电路装置在审

专利信息
申请号: 202011031328.1 申请日: 2020-09-27
公开(公告)号: CN112582428A 公开(公告)日: 2021-03-30
发明(设计)人: 钟淑维;王彦森 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L27/13;H01L21/84
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种根据本公开的集成电路(IC)装置,包括:一基板,包含第一表面以及与第一表面相对的第二表面;一重布层,被设置于第一表面上且包括导电特征;一钝化结构,被设置于重布层上;一金属‑绝缘体‑金属(MIM)电容器,被嵌入于钝化结构中;一虚拟MIM特征,被嵌入于钝化结构中且包括一开口;一顶部接触垫,位于钝化结构上;一接触通孔,在导电特征与顶部接触垫之间延伸;以及一贯穿通孔,延伸穿过钝化结构及基板。虚拟MIM特征与MIM电容器分隔,且贯穿通孔延伸穿过虚拟MIM特征的上述开口,且不接触虚拟MIM特征。
搜索关键词: 集成电路 装置
【主权项】:
暂无信息
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