[发明专利]荧光图像分析装置在审
| 申请号： | 202010902890.0 | 申请日： | 2020-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN112444508A | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 城川政宜;住吉研 | 申请（专利权）人： | 天马日本株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华;何月华 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及荧光图像分析装置。该荧光图像分析装置存储基准荧光样品图像和对象荧光样品图像。基准荧光样品图像是通过用线性偏振光照射面内荧光强度的关系已知的基准荧光样品并捕获来自基准荧光样品的荧光的第一预定偏振分量而获得的图像。对象荧光样品图像是通过用线性偏振光照射对象荧光样品并捕获来自对象荧光样品的荧光的第二预定偏振分量而获得的图像。该荧光图像分析装置被配置为基于基准荧光样品图像来确定用于校正在捕获的图像的像素之间测量的光强度中的不均匀性的校正系数，并且基于校正系数来校正对象荧光样品图像的像素的光强度。 | ||
| 搜索关键词： | 荧光 图像 分析 装置 | ||
【主权项】：
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