[发明专利]零位移基坑工程施工方法及其所用的基坑支护结构在审
| 申请号： | 202010798301.9 | 申请日： | 2020-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN111749245A | 公开（公告）日： | 2020-10-09 |
| 发明（设计）人： | 张继红 | 申请（专利权）人： | 张继红 |
| 主分类号： | E02D17/02 | 分类号： | E02D17/02;E02D31/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200086 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及土木工程领域，特别是涉及基坑支护工程领域中的一种零位移基坑工程施工方法及所用的基坑支护结构，该方法主要包括以下步骤：b)在挡土构件(6)与被保护对象(4)之间置入袋子(2)；c)在袋子(2)内盛装流体(3)；d)通过袋子(2)内的流体(3)对袋子(2)外侧的土体施加应力，补偿因基坑(5)施工产生的应力损失；e)通过被保护对象(4)一侧土体应力损失的补偿，控制被保护对象(4)的位移，本发明可对被保护对象(4)的位移进行实时控制，可减消基坑(5)施工影响，且施工造价低，质量可控，安全度、可靠度高。 | ||
| 搜索关键词： | 位移 基坑 工程施工 方法 及其 所用 支护 结构 | ||
【主权项】：
暂无信息
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