[发明专利]一种PECVD过程中裸露金属保护液及保护方法在审
申请号: | 202010699426.6 | 申请日: | 2020-07-20 |
公开(公告)号: | CN111910165A | 公开(公告)日: | 2020-11-10 |
发明(设计)人: | 马聚沙;沈一;王志彬;沈静曼;吴敏;潘宇;雷刚;姜德鹏;陆剑峰 | 申请(专利权)人: | 上海空间电源研究所 |
主分类号: | C23C16/04 | 分类号: | C23C16/04;C23C16/50;C09D183/04;C09D7/61;C09D7/63 |
代理公司: | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人: | 王永芳 |
地址: | 200245 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种PECVD过程中裸露金属保护液及保护方法,在镀膜前将低质损易剥除硅橡胶保护液涂敷于工件裸露金属表面,待硅橡胶固化形成保护层后对工件进行镀膜操作,镀膜结束后剥除硅橡胶薄膜。低质损易剥除硅橡胶保护液包括100质量份的α,ω‑二羟基聚二甲基硅氧烷,5~20质量份地白炭黑,1~5质量份的正硅酸乙酯,0.1~1质量份的二月桂酸二丁基锡。固化后的硅橡胶保护层兼具高真空环境下低质量损失率,成膜平整无气泡以及剥离强度较低易剥除的特点。本发明中保护液和保护方法能够在镀膜过程中对工件裸露金属部分进行暂时性保护,在去除保护膜后,金属表面无污染物,表面粗糙度及电阻率均未变化,满足焊接、胶接等后续操作的要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 pecvd 过程 裸露 金属 保护 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的