[发明专利]一种PECVD过程中裸露金属保护液及保护方法在审

专利信息
申请号: 202010699426.6 申请日: 2020-07-20
公开(公告)号: CN111910165A 公开(公告)日: 2020-11-10
发明(设计)人: 马聚沙;沈一;王志彬;沈静曼;吴敏;潘宇;雷刚;姜德鹏;陆剑峰 申请(专利权)人: 上海空间电源研究所
主分类号: C23C16/04 分类号: C23C16/04;C23C16/50;C09D183/04;C09D7/61;C09D7/63
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 王永芳
地址: 200245 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种PECVD过程中裸露金属保护液及保护方法,在镀膜前将低质损易剥除硅橡胶保护液涂敷于工件裸露金属表面,待硅橡胶固化形成保护层后对工件进行镀膜操作,镀膜结束后剥除硅橡胶薄膜。低质损易剥除硅橡胶保护液包括100质量份的α,ω‑二羟基聚二甲基硅氧烷,5~20质量份地白炭黑,1~5质量份的正硅酸乙酯,0.1~1质量份的二月桂酸二丁基锡。固化后的硅橡胶保护层兼具高真空环境下低质量损失率,成膜平整无气泡以及剥离强度较低易剥除的特点。本发明中保护液和保护方法能够在镀膜过程中对工件裸露金属部分进行暂时性保护,在去除保护膜后,金属表面无污染物,表面粗糙度及电阻率均未变化,满足焊接、胶接等后续操作的要求。
搜索关键词: 一种 pecvd 过程 裸露 金属 保护 方法
【主权项】:
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