[发明专利]介质高反膜元件表面缺陷测量装置和测量方法有效
| 申请号： | 202010580232.4 | 申请日： | 2020-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN111948223B | 公开（公告）日： | 2023-01-20 |
| 发明（设计）人： | 刘世杰;倪开灶;邵建达;王微微;潘靖宇;邹超逸 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种介质高反膜元件表面缺陷测量装置和测量方法，该装置包括环形光源、样品、陷波滤波系统、显微系统、相机、XYZ位移平台、光束收集器、光纤、光谱仪和计算机。本发明利用宽光谱光源照明，计算高反膜光滑表面散射光谱特性，陷波滤波系统滤除强散射背景光，增强缺陷图像对比度，提高了测量灵敏度，解决了传统技术对介质高反膜元件表面缺陷大量漏检的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 介质 高反膜 元件 表面 缺陷 测量 装置 测量方法 | ||
【主权项】：
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