[发明专利]阵列基板及其制备方法有效
| 申请号： | 202010553751.1 | 申请日： | 2020-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN111640881B | 公开（公告）日： | 2023-05-12 |
| 发明（设计）人： | 刘同辉 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | H10K59/131 | 分类号： | H10K59/131;H10K77/10;H01L27/12;G09F9/30 |
| 代理公司： | 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 | 代理人： | 方晓燕 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种阵列基板及阵列基板的制备方法，阵列基板包括显示区和位于显示区至少一侧的金属走线区，所述金属走线区包括：柔性衬底；设置于所述柔性衬底上的多条金属走线；保护层，覆盖所述柔性衬底和所述金属走线；还包括凹槽，所述凹槽的开口设置于所述柔性衬底靠近所述金属走线的表面，在垂直于所述保护层的方向上，所述凹槽的投影相较于所述金属走线的投影临近所述保护层的边缘；所述凹槽内至少部分填充有亲水材料。通过在柔性衬底上的凹槽中填充亲水材料，吸收阵列基板内的水汽，避免柔性衬底与保护层之间的金属走线因水汽入侵而失效。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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