[发明专利]一种硅晶圆光阻溶解过程观测装置在审

专利信息
申请号: 202010551570.5 申请日: 2020-06-17
公开(公告)号: CN111696881A 公开(公告)日: 2020-09-22
发明(设计)人: 段玲玲 申请(专利权)人: 段玲玲
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;G03F7/42
代理公司: 北京劲创知识产权代理事务所(普通合伙) 11589 代理人: 曹玉清
地址: 331409 江西省吉安市*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明属于晶圆领域,尤其是一种硅晶圆光阻溶解过程观测装置,针对目前市场上的硅晶圆光阻溶解过程观测装置使用不够方便,不便于进行溶解操作,现提出如下方案:一种硅晶圆光阻溶解过程观测装置,包括底座与溶解桶,所述底座的下端外表面固定安装有支架,所述支架的下端活动安装有滚轮,所述底座的上端固定安装有固定座,所述溶解桶放置在固定座的上端,所述底座的上端位于固定座的一侧的位置固定安装有安装座,所述安装座的上端活动连接有立柱。本发明中,通过滚轮上的减震结构是装置移动更加稳定,通过可转动的立柱能够方便观测装置的使用,并且通过可升降的夹具能够方便对晶圆进行光阻溶解操作。
搜索关键词: 一种 圆光 溶解 过程 观测 装置
【主权项】:
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