[发明专利]抗散射成像方法与装置有效
| 申请号： | 202010534696.1 | 申请日： | 2020-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN111795949B | 公开（公告）日： | 2022-05-31 |
| 发明（设计）人： | 边丽蘅;常旭阳;张军 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | G01N21/47 | 分类号： | G01N21/47;G01J9/02 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 石茵汀 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请提出一种抗散射成像方法与装置，包括以下步骤：获取散斑图；计算散斑图的自相关信息，对自相关信息进行傅里叶变换后取模值获取原始目标傅里叶域幅值信息；对散斑图进行分块处理得到N张子散斑图，并利用N张子散斑图计算双谱得到双谱相位；其中，N为正整数；根据双谱相位计算原始目标傅里叶域相位的初始估计值，并利用高斯牛顿优化方法对初始估计值进行迭代优化得到高精度傅里叶域相位；根据原始目标傅里叶域幅值信息和高精度傅里叶域相位重建原始目标图像。由此，从单张散斑图即可重建原始目标信息，且幅值和相位恢复过程相互独立，相位恢复精度高，抗噪性强。 | ||
| 搜索关键词： | 散射 成像 方法 装置 | ||
【主权项】：
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