[发明专利]一种双层中空结构的多孔碳-NiFe2 在审
申请号: | 202010533768.0 | 申请日: | 2020-06-12 |
公开(公告)号: | CN111748316A | 公开(公告)日: | 2020-10-09 |
发明(设计)人: | 金见习 | 申请(专利权)人: | 新昌县同生生物技术股份有限公司 |
主分类号: | C09K3/00 | 分类号: | C09K3/00;C01B32/05;C01B32/198;C01G53/00;H05K9/00 |
代理公司: | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人: | 于洁 |
地址: | 312500 *** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: |
本发明涉及电磁屏蔽材料技术领域,且公开了一种双层中空结构的多孔碳‑NiFe |
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搜索关键词: | 一种 双层 中空 结构 多孔 nife base sub | ||
【主权项】:
暂无信息
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