[发明专利]一种高饱和度非晶光子结构色釉及其制备方法在审
| 申请号： | 202010450861.5 | 申请日： | 2020-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN111517826A | 公开（公告）日： | 2020-08-11 |
| 发明（设计）人： | 施佩;张彪;杨海波;王芬;朱建锋;王甜;张佩 | 申请（专利权）人： | 陕西科技大学 |
| 主分类号： | C04B41/86 | 分类号： | C04B41/86;C03C8/14 |
| 代理公司： | 西安智大知识产权代理事务所 61215 | 代理人： | 王晶 |
| 地址： | 710021 陕西省*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： |
一种高饱和度非晶光子结构色釉及其制备方法，包括以下步骤；按质量比取60％的长石、20％的石英、15％的方解石、2％的滑石、3％的高岭土作为基础釉，加入基础釉总质量2‑12％的Ca |
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| 搜索关键词： | 一种 饱和度 光子 结构 色釉 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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