[发明专利]表征相干合成系统中窄线宽光纤激光光谱相干特性的评价系统及方法有效

专利信息
申请号: 202010421111.5 申请日: 2020-05-18
公开(公告)号: CN111585154B 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 周朴;来文昌;马鹏飞;刘伟;黄龙;侯天悦;张雨秋;姜曼;李灿;粟荣涛;吴坚;马阎星 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科技大学
主分类号: H01S3/067 分类号: H01S3/067;H01S3/30;G06F9/451
代理公司: 长沙国科天河知识产权代理有限公司 43225 代理人: 邱轶
地址: 410073 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 一种表征相干合成系统中窄线宽光纤激光光谱相干特性的评价系统及方法,包括待表征窄线宽光纤激光器、高反镜、功率接收器、衰减系统、聚焦透镜、单模光纤、光谱采集系统、光谱相干性评价系统。光谱相干性评价系统将采集到的光谱信息进行功率谱归一化处理,得到光谱的归一化功率谱;然后计算任意不同延迟时间下的光谱相干性评价因子,通过比较不同延迟时间下的光谱相干性评价因子实现窄线宽光纤激光的光谱相干特性的评价。通过光谱相干性评价因子可直接得到窄线宽光纤激光在相干合成系统的单个合成单元中的合成效率。本发明全面的描述光谱的形态分布和相干特性,且本发明具有通用性,可以广泛应用于各种窄线宽光纤激光的光谱相干特性的评价。
搜索关键词: 表征 相干 合成 系统 中窄线宽 光纤 激光 光谱 特性 评价 方法
【主权项】:
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