[发明专利]一种掩膜板、显示面板及其制备方法在审
| 申请号： | 202010319152.3 | 申请日： | 2020-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN111413846A | 公开（公告）日： | 2020-07-14 |
| 发明（设计）人： | 全海燕;吕晓文 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 李新干 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种掩膜板、显示面板及其制备方法，本发明实施例中的掩膜板包括横向遮光条和横向遮光条交叉的纵向遮光条，掩膜板在横向遮光条和纵向遮光条的转角处存在至少一个挖空区域，利用MPC补偿的原理，来制备出更加接近90°的金属转角，从而改善显示区内的金属与偏光片非垂直或平行的状态，如此便可以在不损失开口率的情况下，使金属漏光降低，减小暗态亮度进而提高显示面板显示图像的对比度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 显示 面板 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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