[发明专利]一种用于非晶纳米晶带材连续涂覆绝缘涂层的设备及方法在审

专利信息
申请号: 202010197302.8 申请日: 2020-03-19
公开(公告)号: CN113275204A 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 刘天成;潘贇;陈非非;戴白杨;贾春波;刘迎春;洪兴;李广敏 申请(专利权)人: 安泰科技股份有限公司
主分类号: B05C9/14 分类号: B05C9/14;B05C11/02;B05C11/10;B05C5/02;B05C3/12;B05C1/14;B08B3/02
代理公司: 北京知联天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11594 代理人: 张陆军;张迎新
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明属于涂覆技术领域,具体涉及一种用于非晶纳米晶带材连续涂覆绝缘涂层的设备及方法。本发明的设备可以稳定、均匀且连续地对非晶纳米晶带材进行绝缘涂层的涂覆。本发明的设备可以对带材表面进行清洗,解决了现有技术中因杂质的存在而导致绝缘涂层出现厚度不均匀甚至脱落的技术问题。此外,本发明的设备可以对涂覆后的非晶纳米晶带材的绝缘性能进行时测量,并且测量数据是耐压值和电阻值,可以直接反映绝缘涂层的绝缘性能。而且,本发明可以选用刷涂、喷涂、浸涂任意一种涂覆方式,同时结合厚度控制装置,对于带材表面多余的液体进行挤压,在保证液量的同时可以对液膜进行进一步的均匀化处理,可以实现绝缘涂层的厚度可控。
搜索关键词: 一种 用于 纳米 晶带材 连续 绝缘 涂层 设备 方法
【主权项】:
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