[发明专利]阵列基板在审

专利信息
申请号: 202010191364.8 申请日: 2020-03-18
公开(公告)号: CN111370427A 公开(公告)日: 2020-07-03
发明(设计)人: 李松杉 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L27/32
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 刁文魁
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种阵列基板,包括:基板、缓冲层、介电层、平坦化层、第一电极以及像素限定层。通过在缓冲层中对应所述主动层沟道处设置a‑Si(非晶硅),作为后续主动层在ELA(准分子镭射退火)结晶时的晶核,同时要求a‑Si位于主动层沟道的正下方,宽度和长度和主动层沟道的宽度和长度相等,主动层沟道处结晶时会以正下方的a‑Si为晶核,这样可以使主动层沟道实现ELA的定点结晶,使晶粒增大,晶界减少,大幅度改善ELA结晶的均一性,同时改善开关TFT和驱动TFT电性均一性,从而提升LTPS的良率。
搜索关键词: 阵列
【主权项】:
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