[发明专利]一种X射线成像系统及成像方法有效
| 申请号： | 202010184286.9 | 申请日： | 2020-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN111358478B | 公开（公告）日： | 2023-08-18 |
| 发明（设计）人： | 王伟懿;印晖 | 申请（专利权）人： | 上海联影医疗科技股份有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 成都七星天知识产权代理有限公司 51253 | 代理人： | 朱璟 |
| 地址： | 201807 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种X射线成像系统及成像方法。该X射线成像系统包括探测器、处理器和与所述探测器相对的至少两个X射线源，待成像物体放置在所述探测器和所述至少两个X射线源之间；所述至少两个X射线源能够向所述探测器发射X射线，各个X射线源所发射的X射线光子的能量范围不同；所述处理器用于：基于所述探测器的各个探测单元所探测到的X射线光子的能量范围，确定每个探测单元所接收到的不同照射角度的光子数量；根据所述每个探测单元所接收到的不同照射角度的光子数量，确定待成像物体的图像数据。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 射线 成像 系统 方法 | ||
【主权项】：
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