[发明专利]一种石墨烯基选择性吸收膜系及其吸收层制备方法在审
| 申请号： | 202010169149.8 | 申请日： | 2020-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN111397231A | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 曲良体;廖启华;程虎虎;张盼盼 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | F24S70/225 | 分类号： | F24S70/225 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 肖阳 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种石墨烯基选择性吸收膜系及其吸收层制备方法。膜系中石墨烯吸收层的制备方法为混合溶液涂覆，包括：氧化剥离石墨粉得到氧化石墨烯水溶液；将氧化石墨烯水溶液与低表面张力溶液混合，得到混合溶液；将混合溶液涂覆到红外反射层表面，以便得到氧化石墨烯吸收层；将氧化石墨烯吸收层进行还原处理，以便得到石墨烯吸收层。石墨烯吸收层具备优良的折射率与消光系数，从而保证了该石墨烯基选择性吸收膜系出色的光谱选择性，提高了选择性吸收表面的光热利用效率。同时，改变石墨烯层厚度可以调节膜系的光学带隙，石墨烯基选择性吸收膜系还具备与可用光学带隙相匹配的高温下长时间稳定性，可广泛应用于低温到高温的太阳能利用系统。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 石墨 选择性 吸收 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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