[发明专利]一种采用冷喷涂制备抗辐照钽涂层的方法有效
| 申请号： | 202010143434.2 | 申请日： | 2020-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN111235562B | 公开（公告）日： | 2022-01-14 |
| 发明（设计）人： | 熊天英;赵鹤然;唐俊榕;杜昊;王吉强;刘晗珲;沈艳芳;杨颖;毛天亮 | 申请（专利权）人： | 中国科学院金属研究所;中国电子科技集团公司第四十七研究所 |
| 主分类号： | C23C24/04 | 分类号： | C23C24/04 |
| 代理公司： | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人： | 张志伟 |
| 地址： | 110016 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明属于防护涂层制备领域，具体涉及一种采用冷喷涂制备抗辐照钽涂层的方法。该方法包括以下步骤：(1)采用冷气动力喷涂技术，将Al或Ti金属粉末喷涂到器件基体表面，形成金属打底涂层；(2)采用冷气动力喷涂技术，将纯Ta粉喷涂到打底涂层上，形成Ta涂层。本发明有效地避免了制备钽涂层需要的高温条件，以及由此带来的氧化等性能降低问题。本发明采用冷喷涂制备抗辐照钽涂层，可以用于电子封装器件外表面的抗辐照防护。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 采用 喷涂 制备 辐照 涂层 方法 | ||
【主权项】：
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