[发明专利]含锡阵列结构的电极的制备及应用有效

专利信息
申请号: 202010093550.8 申请日: 2020-02-14
公开(公告)号: CN111276672B 公开(公告)日: 2021-07-20
发明(设计)人: 倪江锋;朱晓翠;孙梦雷;李亮 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: H01M4/1395 分类号: H01M4/1395;H01M4/04;H01M4/134;H01M10/054;B82Y40/00;B82Y30/00
代理公司: 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 代理人: 苏张林
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种用于钠离子电池的高性能含锡阵列结构的电极的制备方法,包括以下步骤:以清洗干净的铜基底为工作电极,以含有锡离子和模板剂的溶液为电解液,采用三电极体系进行恒流电沉积,以在铜基底表面形成锡阵列结构;将经以上处理后的基底在真空或非氧化气体中于80~230℃下进行退火处理,得到含锡阵列结构的电极。该制备方法工艺简单,操作方便,所制备的电极可以直接用于钠离子电池的负极,并且表现出较高的比容量、良好的循环稳定性和优良的倍率充放电特性。
搜索关键词: 阵列 结构 电极 制备 应用
【主权项】:
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