[发明专利]一种曲面基底衍射光学元件测量方法在审

专利信息
申请号: 202010084517.9 申请日: 2020-02-10
公开(公告)号: CN111256588A 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 张效栋;朱琳琳;董禹初 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00;G01B11/24
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 程毓英
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及一种曲面基底衍射光学元件测量方法,包括以下步骤:测量系统搭建;色谱测距传感器找正;测量数据获取:色谱测距传感器沿被测的DOE的基底轮廓中心线以恒定的速度与采样频率采集测量数据,所获得的测量数据是沿着被测DOE工件设计基底“展开”的含高度信息的数据点云,即将被测DOE工件的DOE曲面基底延展成平面;测量数据前处理:对测量数据进行中值滤波前处理以减小测量数据中包含的误差;获得设计模型沿基底展开的数据:将DOE的设计模型沿基底中心线展开,获得一条分布有DOE设计面形中心轮廓信息的直线;经过中值滤波测量数据与设计模型数据的优化匹配;得到包含实际尺寸信息的测量数据。
搜索关键词: 一种 曲面 基底 衍射 光学 元件 测量方法
【主权项】:
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