[发明专利]一种粉防己中甲、乙素双模板分子印迹提纯方法有效
| 申请号： | 202010051769.1 | 申请日： | 2020-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN111153909B | 公开（公告）日： | 2022-05-17 |
| 发明（设计）人： | 陈金龙;黄文超;黄丽莉;揭建林;朱培林;杨燕欢;郜杰;康月菊 | 申请（专利权）人： | 石药集团江西金芙蓉药业股份有限公司 |
| 主分类号： | C07D491/18 | 分类号： | C07D491/18;B01D15/08;B01J20/26;B01J20/30;C08F222/14;C08F220/06;C08J9/28 |
| 代理公司： | 南昌恒桥知识产权代理事务所(普通合伙) 36125 | 代理人： | 杨志宇 |
| 地址： | 332000 *** | 国省代码： | 江西;36 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种药物提取及纯化技术，具体是提供了一种同时高效分离出粉防己甲素与乙素的技术方法；即利用甲基丙烯酸、二甲基丙烯酸乙二醇酯和偶氮二异丁氰等与目标分子粉防己甲素及乙素合成，再洗脱目标分子得到双模板分子印迹聚合物，再利用该聚合物同时提取粉防己中甲素及乙素，再通过反相色谱柱及制备色谱仪进一步分离粉防己甲素及乙素，所得粉防己甲素及乙素纯度均达到99%以上。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 防己 双模 分子 印迹 提纯 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于石药集团江西金芙蓉药业股份有限公司，未经石药集团江西金芙蓉药业股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010051769.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
