[发明专利]一种旋转动密封结构及旋转电解抛光装置在审
| 申请号： | 202010049918.0 | 申请日： | 2020-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN111237464A | 公开（公告）日： | 2020-06-05 |
| 发明（设计）人： | 郭浩;宋玉堃;熊平然;初青伟;游志明;何源;张生虎 | 申请（专利权）人： | 中国科学院近代物理研究所 |
| 主分类号： | F16J15/20 | 分类号： | F16J15/20;F16J15/18;F16J15/3232;C25F7/00;C25F3/16 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 刘小娟 |
| 地址： | 730013 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种旋转动密封结构及旋转电解抛光装置。本发明所述旋转动密封结构在定子和转子的密封连接处采用双唇型结构动密封圈，该动密封圈的材料为聚四氟乙烯材料，所述旋转动密封结构在定子和转子的轴肩连接处采用滑动轴承连接，所述旋转动密封结构在定子和转子的内外圈相对转动处采用深沟球轴承连接。本发明所述旋转动密封装置及旋转电解抛光装置，既具有耐腐蚀的特点，又可以保障装置的同轴度等工艺参数，具备可靠和安全性等特点，其解决了强腐蚀电解质环境下尤其是大通径工件的内表面旋转电解化学抛光工艺的实现问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 旋转 密封 结构 电解 抛光 装置 | ||
【主权项】：
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