[发明专利]光压测量装置及光压测量方法有效
| 申请号： | 202010048183.X | 申请日： | 2020-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN113138043B | 公开（公告）日： | 2022-04-22 |
| 发明（设计）人： | 丛琳;袁子;姜开利;范守善 | 申请（专利权）人： | 清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | G01L1/24 | 分类号： | G01L1/24 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区清*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一光压测量装置，其包括一扭秤、一激光器、一凸透镜以及一线阵列探测器，其中，所述扭秤包括一根悬空的碳纳米管和一悬挂固定于所述碳纳米管上的反射镜，所述反射镜包括一薄膜和两反射层，所述薄膜包括两层或两层以上层叠设置的二维材料，所述薄膜具有相对的第一表面和第二表面，所述两反射层分别形成于所述薄膜的第一表面和第二表面；所述激光器用于发射激光；所述凸透镜位于所述激光的光路上，用于将所述激光汇聚至所述反射镜的表面，所述激光被所述反射镜反射，形成一反射光；所述线阵列探测器位于所述反射镜的反射光路上，用于接收所述反射镜的反射光。本发明还涉及一光压测量方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光压 测量 装置 测量方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司，未经清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010048183.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
